專利名稱：導光板冷卻裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及ー種冷卻裝置，尤其涉及一種導光板冷卻裝置。
背景技術：
目前，導光板通過射出成型后，溫度較高，需要將其冷卻以后再進行后續的處理。現有技術中，導光板是單獨靜置，使其自然冷卻。然而，冷卻多個導光板時，且占用空間很大，且由于空氣流動緩慢，造成冷卻緩慢，以至于整個加工周期變長，效率降低。

發明內容
鑒于上述內容,有必要提供一種可同時為多塊導光板進行散熱的導光板冷卻裝置。一種導光板冷卻裝置，用于同時對多個導光板進行冷卻，所述導光板冷卻裝置包括多個冷卻盤、一個支架及ー個風扇。每個所述冷卻盤用于收容所述多個導光板，所述冷卻盤包括一底板。所述底板的周緣沿垂直所述底板方向延伸有一邊框。所述底板及邊框共同形成ー收容空間。所述底板上設置多個凸塊，所述凸塊用于支撐所述導光板以使其收容于所述收容空間內且與所述底板相隔開。所述底板上設置多個通孔，所述通孔正對所述導光板。所述多個冷卻盤相互堆疊設置在所述支架上，所述風扇設置在所述支架內，所述風扇用于通過多個通孔送風至多個冷卻盤并冷卻多個導光板。相對于現有技木，所述導光板冷卻裝置，多個冷卻盤堆疊置在所述支架上，每個冷卻盤上均開設有通孔，所述風扇產生的風可以通過所述通孔傳播至每個冷卻盤，對收容在所述冷卻盤內的收容空間內的所述導光板進行冷卻。從而可同時對多個導光板進行冷卻。


圖1為本發明導光板冷卻裝置的使用狀態剖視 圖2為本發明冷卻盤的示意 圖3為本發明冷卻盤的使用狀態示意 圖4為圖2沿IV-1V線的剖視圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種導光板冷卻裝置，用于同時對多個導光板進行冷卻，所述導光板冷卻裝置包括多個冷卻盤、一個支架及一個風扇，每個所述冷卻盤用于收容所述多個導光板，所述冷卻盤包括一底板，所述底板的周緣沿垂直所述底板方向延伸有一邊框，所述底板及邊框共同形成一收容空間，所述底板上設置多個凸塊，所述凸塊用于支撐所述導光板以使其收容于所述收容空間內且與所述底板相隔開，所述底板上設置多個通孔，所述通孔正對所述導光板，所述多個冷卻盤相互堆疊設置在所述支架上，所述風扇設置在所述支架內，所述風扇用于通過多個通孔送風至多個冷卻盤并冷卻多個導光板。
2.如權利要求1所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述多個通孔為矩陣排列。
3.如權利要求1所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述收容空間沿垂直所述底板方向上的深度大于每個凸塊沿垂直所述底板方向上的高度與所述導光板的厚度之和。
4.如權利要求3所述的導光板冷卻裝置，其特征在于:所述凸塊分布在所述通孔之間。
5.如權利要求述I所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述支架包括兩個支撐臂，所述每個支撐臂包括一用于承載所述冷卻盤的承載面，所述承載面開設有一缺口，所述缺口為矩形，兩個缺口相對設置，與所述支架相接觸的所述冷卻盤的邊框分別設置在所述兩個缺口內。
6.如權利要求述5所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述風扇設置在所述兩個支撐臂之間。
7.如權利要求述I所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述邊框包括一個平行于所述底板的第一外表面及一與所述第一外表面相對的第二外表面，所述第一外表面在遠離底板的一側，所述第二外表面與所述底板相平齊，所述第一外表面上設置有至少兩個突起，所述< 第二外表面設置有至少兩個凹槽，所述突起與所述凹槽的數量及位置均對應。
8.如權利要求述I所述的導光板冷卻裝置，其特征在于所述底板的面積大于兩個所述導光板的面積和。
全文摘要
一種導光板冷卻裝置，用于同時對多個導光板進行冷卻，所述導光板冷卻裝置包括多個冷卻盤、一個支架及一個風扇。每個所述冷卻盤用于收容所述多個導光板，所述冷卻盤包括一底板。所述底板的周緣沿垂直所述底板方向延伸有一邊框。所述底板及邊框共同形成一收容空間。所述底板上設置多個凸塊，所述凸塊用于支撐所述導光板以使其收容于所述收容空間內且與所述底板相隔開。所述底板上設置多個通孔，所述通孔正對所述導光板。所述多個冷卻盤相互堆疊設置在所述支架上，所述風扇設置在所述支架內，所述風扇用于通過多個通孔送風至多個冷卻盤并冷卻多個導光板。
文檔編號G02B6/00GK103033871SQ20111029289
公開日2013年4月10日 申請日期2011年10月6日 優先權日2011年10月6日
發明者余泰成, 林大為 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司